關于熱處理膜化
此外,通過在具有上述組成的軟磁合金上在預定的300°C至600°C的溫度下進行退火,虹膜可能會顯著增加合金的飽和磁通密度,或者調節矯頑力的值,并且在保持飽和磁通密度處于較好的同時,保持其比電阻。因此,通過適當設定退火溫度,可以得到具有高飽和磁通密度,根據用途適當的矯頑力和電阻率的軟磁性合金。此外,通過選擇根據本發明的軟磁性合金的熱處理條件,可以獲得400?1×105的高電阻率,因此當用于構造磁性元件時,軟磁性根據本發明的合金能夠在高頻范圍內渦流損耗,從而提供一種渦流損耗小的磁性元件。此外,通過在基板上形成平面線圈并用緣層覆蓋該線圈,并且提供具有如上所述組成的軟磁合金的磁性膜,以覆蓋平面線圈和緣層以構成諸如電感器的平面磁性元件,可以施加矯頑力低,飽和磁通密度高且對磁性元素的比電阻高的優良軟磁合金,從而提供了好的磁芯。輕巧的新型磁性元件。因此,可以提供小且輕的平面磁性元件。
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